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科技
1、取3-5克微晶高分子納米修復劑與微晶石表面上，注意用量不要太大，每平方米5克左右。
2、將納米拋光墊壓于拋光設備下，開動機器，20寸拋光機則用100轉進行研磨，手持拋光機要開動2000轉左右研磨2-3分鐘，待有阻力感覺20寸機則調速到250轉進行快速拋磨至干，手持拋光機則加速至5000轉減輕壓力進行拋磨，拋干拋亮，檢查裂痕是否存在，如果還有就再重復幾次直至劃痕消除，最后收盡周圍留下的眩光痕跡。
3、眩光痕跡的處理方法，每個研磨拋光過程后在周邊都會留下一圈一圈的打磨痕跡，這種情況下用干凈的墊子噴點清水拋一下就沒了，但必須隨磨隨拋，不要等完全干透了就拋不下來了。
