等離子體增強(qiáng)化學(xué)的氣相沉積法。
實(shí)驗(yàn)機(jī)理:借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。
優(yōu)點(diǎn):基本溫度低;沉積速率快;成膜質(zhì)量好,針孔較少,不易龜裂。
缺點(diǎn):設(shè)備投資大、成本高,對(duì)氣體的純度要求高;對(duì)小孔孔徑內(nèi)表面難以涂層;沉積之后產(chǎn)生的尾氣不易處理。