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科技
等離子體增強(qiáng)化學(xué)的氣相沉積法。
實(shí)驗(yàn)機(jī)理：借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。
優(yōu)點(diǎn)：基本溫度低；沉積速率快；成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂。
缺點(diǎn)：設(shè)備投資大、成本高，對(duì)氣體的純度要求高；對(duì)小孔孔徑內(nèi)表面難以涂層；沉積之后產(chǎn)生的尾氣不易處理。
